浅谈色谱峰之峰拖尾_上海睿康生物科技有限公司

色谱柱在液相色谱和液相色谱串联质谱联用技术中扮演了关键的角色，作为核心组件之一，其作用是对样品进行分离和分析。液相色谱柱通常由不锈钢制成，内部填充了各种不同的吸附剂或固定相，如C18、C8或C6等不同种类的键合相。这些键合相与流动相（即样品溶液）中的化合物发生相互作用，使得不同的化合物在色谱柱上得以分离。

在我们日常分析检测过程中，经常会遇到各种色谱峰型的问题，如峰拖尾、峰变形、峰分裂、峰前沿等等，均可能会影响到分析结果的准确性和可靠性。其中，峰拖尾便是我们检测结果中比较常见的现象之一，明确色谱峰拖尾产生的原因并采取有效措施进行色谱峰型优化可以帮我们获得更加准确可靠的检测结果。

什么是峰拖尾？

色谱峰拖尾是一个现象，指在色谱分析过程中，某些色谱峰的形状呈现出后沿不平滑，不均匀，甚至出现“尾巴”的现象。这会导致色谱峰的对称性降低，影响到色谱峰的峰高、峰面积等参数的测量精度，从而影响到样品的分析结果。

如何评价色谱峰的拖尾

大多数情况下制药行业用美国药典（USP）中拖尾因子（Tf）来评价，而其余的分析行业内则会选择用对称因子（As）来评价。

其中，拖尾因子Tf=(a+b)/2a，a和b分别为5%峰高处的左右半峰宽。

对称因子As=d/c，其中c和d分别为10%峰高处的左右半峰宽。如果a=b，c=d，那么拖尾因子和对称因子的数值都等于1，也就是该峰不拖尾。实际工作中，当拖尾因子和对称因子小于2时，这两个值是非常接近的，如下图所示。

色谱峰拖尾产生原因

色谱峰拖尾是一个常见的问题，通常是由于样品在色谱柱上的保留不足或是不均匀所导致的。下面是一些可能导致色谱峰拖尾的常见原因：

（1）化学效应：有时样品中的化学物质之间会发生反应，导致色谱峰拖尾。例如，有些物质可能与色谱柱上的硅羟基发生反应，形成氢键，导致保留时间延长，从而出现拖尾。

（2）柱外效应：如果色谱柱外的样品或流动相在进入色谱柱时形成气泡或脉冲，可能会导致色谱峰拖尾。此外，如果色谱柱安装不当，例如连接螺母不匹配或柱床体积过小，也可能会影响色谱柱的性能，导致色谱峰拖尾。

（3）流动相不合适：流动相的极性和组成可能会影响样品的保留和分离效果，如果流动相的极性过强或过弱，或者流动相中含有杂质，可能会导致色谱峰拖尾。

（4）色谱柱不匹配：如果使用的色谱柱类型和规格与样品不匹配，也可能会导致色谱峰拖尾。例如，如果色谱柱规格过小，会导致样品在色谱柱上的保留不均匀，从而引起色谱峰拖尾。

（5）温度不合适：温度的变化可能会影响样品的保留和分离效果，如果温度过高或过低，可能会导致色谱峰拖尾。

峰拖尾对分析结果的影响

色谱峰拖尾会影响峰高和峰面积的测量精度，主要是因为拖尾峰会导致色谱峰的对称性降低，使得峰高和峰面积的计算不准确。在计算峰高时，拖尾峰的负面影响会更加明显。因为拖尾峰的后沿不平滑，不均匀，使得峰高的计算不准确，进而影响到最低检出限的计算。而在计算峰面积时，拖尾峰也会影响峰面积的测量精度。因为在积分色谱峰时，峰的起点和终点通常是根据色谱峰的斜率来确定。如果色谱峰越拖尾，它的尾部基线越平缓，终点就越难确认。特别是在基线波动较大时，这一点体现的更加突出，那么它就会影响积分得到的峰面积。因此，在色谱分析中，如果色谱峰出现拖尾现象，应该采取相应的措施来改善色谱峰的形状，以提高峰高和峰面积的测量精度。

色谱峰拖尾解决方法

为了解决色谱峰拖尾的问题，可以采取一些措施。例如，可以优化色谱条件，如改变流动相的组成和极性、降低样品的浓度、改变柱温等；可以更换新的色谱柱或对色谱柱进行清洗和再生；也可以调整仪器参数，如改变检测参数、增加进样量等。此外，如果是因为样品中存在杂质或气泡等问题引起的色谱峰拖尾，也可以采取相应的措施进行解决。

上海睿康生物科技有限公司生产的色谱柱兼容HPLC和UPLC的分析需求，助力用户老师在临床项目检测过程中获得更好的峰型和更高的分离度。色谱柱类型可覆盖常见的临床质谱检测项目，包括维生素、氨基酸、类固醇激素、甲状腺素和药物浓度等，每种色谱柱对应的检测项目均已有成熟的仪器方法供用户选择，用户无需二次方法开发。上海睿康生物旨在为临床客户提供更加全面和专业的临床质谱服务方案！

参考文献

[1]Szymon,B.&B.Boguslaw, Residual silanols at reversed-phase silica in HPLC - A contribution for a better understanding[J].Chromatography A,2012,(35):1191-1200.

[2]王娜,王海娇,岳明新,赵恩好,刘琦.高效液相色谱常见问题分析及对策[N].辽宁化工,2008,4

[3]宋学英,郑美青,赵淑锐.高效液相色谱实验教学中常见问题的分析与研究[J].医学教育管理，2021,Vol,Supp.